用雕刻的銅或鋼凹版作為原版，由成型材料制崇模，再將電模放人鍍鍵以厚層的金屬，然后從電模上剝下金屬電鍍層，在其表面鍍鉻，即成可供印販。-濤鈑有銅電鑄版鐵電鑄版以及鎳電鑄版等。\過(guò)版法與電鑄法相比，雖然具有操作時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)，但卻要求操作者底紋沒(méi)用有熟練的技且其制版效果，還會(huì)因個(gè)人手法的不問(wèn)而差異很人凹版的尺寸和形狀，因版鑲.會(huì)難以制版的質(zhì)制版雖然時(shí)問(wèn)較長(zhǎng)，似個(gè)人技術(shù)對(duì)制版效果的影響較小，能忠實(shí)于原版手工與機(jī)械雕刻凹版印刷工藝雕刻凹版印底紋沒(méi)用刷機(jī)手工與機(jī)械雕刻凹版和照相凹版相比，線畫(huà)凹人的深度較大，要較大的壓力，才可以把油墨轉(zhuǎn)移到紙張的表面，一般壓力約為，？隨乾，雕刻凹版印刷機(jī)和其他的印刷機(jī)相比，結(jié)構(gòu)上應(yīng)有較高的剛度和強(qiáng)度。麵-印刷機(jī)，由輸紙機(jī)構(gòu)收紙機(jī)構(gòu)印刷機(jī)構(gòu)以及上墨及擦除裝置組成。印刷輸紙臺(tái)送出，通過(guò)印版滾筒和壓印滾

底紋沒(méi)用三個(gè)方面的力，一是電化鋁從基膜層剝離時(shí)產(chǎn)生的剝離力，二是電化鋁連結(jié)料折射率必須條件：。顏料光學(xué)膜的光學(xué)厚度必須條件是介質(zhì)厚度。即單層薄膜的光學(xué)厚度為人射光;的奇數(shù)倍。膜層材料的折射率應(yīng)在。和之間，等于。然而實(shí)際上這兩個(gè)條件很難，內(nèi)為很難這樣的材料。采用多層髙折射介質(zhì)膜就可以解決上巧題。由式：-可知，要膜層材料的折射率：要基層材料的折射率。多層鍍膜就是在基底上先鈹一層髙折射率的膜，稱(chēng)為膜，然后再鍍一層低射率的膜，稱(chēng)為膜，如此間隔地鍍膜-，后鍍一層膜，這樣就多層復(fù)合膜。働-所示。同樣每層膜的光都是人射光波的奇數(shù)倍，且和,化應(yīng)枏差較大，如膜弓膜可用,根問(wèn)樣原理，乙膜與胰排列順?lè)淳涂梢援a(chǎn)生與增透膜效果不一樣的多層增反膜，這兩種復(fù)合膜都可以隨著視角變化產(chǎn)生奇妙的效果。如果事先在底基上覆蓋一層高分子，這種材料至少可以溶于一種溶輛中，例如樹(shù)脂可溶于。在這種材料匕通過(guò)真空鍍膜，在嚴(yán)格控制下

與承

故適宜風(fēng)景等性礙類(lèi)。人造網(wǎng)點(diǎn)凹印版。人造網(wǎng)點(diǎn)法，也稱(chēng)陰畫(huà)法。它與直刻法恰恰相反，不是在空白上雕刻線凼，逐漸加入陰影而是在全黑的背景上，由線畫(huà)的暗調(diào)部分開(kāi)始描刻，攬分。先處理銅板，使其表呈粗糙的狀態(tài)，以備加：油墨之后，滿(mǎn)向皆濃―枏刀圖垂直對(duì)向版面，經(jīng)過(guò)縱橫及偏斜多次有規(guī)則地振動(dòng)，在版面表面滾壓出底紋，再依照原畫(huà)線條在版面上刻出圖像。印刷時(shí)油墨填人餡，線屑部分亦可含藏油墨，使產(chǎn)品達(dá)到階調(diào)柔和細(xì)膩。這種適宜于油畫(huà)。④蝕刻凹版。制版操作有以下幾個(gè)步驟：把經(jīng)過(guò)仔細(xì)研磨的銅版，清洗干凈，晾干。在其表面涂布一層以蠟為主，瀝青蠟和樹(shù)脂熔合襯黑色抗蝕薄膜。這種防蝕劑易于熔化，易于附于金屬表面，用蝕刻針描劃毅不會(huì)破裂，劃線光潔清晰。再用蝕刻針手工刻底紋沒(méi)用