電子、涼山會理本地半導(dǎo)體等行業(yè)煙氣中二氧化硫濃度極低（常＜100mg/m3），傳統(tǒng)鈣基脫硫劑因反應(yīng)驅(qū)動力不足，難以有效捕獲低濃度二氧化硫，收率普遍低于 80％，無法滿足超低排放要求（＜35mg/m3）。涼山會理針對低濃度場景，研發(fā) “SO?富集反應(yīng)” 鈣基脫硫劑，在顆粒內(nèi)部植入 “分子捕獲劑”：分子捕獲劑可通過范德華力與二氧化硫分子結(jié)合，將局部區(qū)域二氧化硫濃度 10 倍以上，為鈣基成分反應(yīng)提供充足原料；同時，采用 “多級反應(yīng)結(jié)構(gòu)”，顆粒從外到內(nèi)設(shè)置不同活性梯度，確保低濃度二氧化硫逐步被捕獲反應(yīng)。?某電子廠煙氣二氧化硫濃度穩(wěn)定在 80mg/m3，此前使用普通脫硫劑，收率僅 78％，排放濃度超 50mg/m3，需額外投入吸附裝置（年運行成本 25 萬元）。改用涼山會理富集反應(yīng)脫硫劑后，分子捕獲劑將局部二氧化硫濃度至 800mg/m3，多級反應(yīng)結(jié)構(gòu)確保充分反應(yīng)，收率至 94％ 以上，排放濃度控制在 28mg/m3 以下，無需額外吸附裝置，年節(jié)省成本 25 萬元。同時，因反應(yīng)徹底，脫硫劑投加量減少 15％，年降本超 18 萬元。