哈爾濱方正高比表氫氧化鈣在煙氣脫硫過(guò)程中的反應(yīng)速率是小蘇打的20倍，并且小蘇打脫硫過(guò)后會(huì)產(chǎn)生危廢氣體排放出去，會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染并且不易控制，而高比表氫氧化鈣脫硫后產(chǎn)生的是固體廢物，方便企業(yè)后續(xù)處理，因此我國(guó)環(huán)境保護(hù)部門(mén)主推高比表氫氧化鈣應(yīng)用于脫硫行業(yè)，并不主張使用小蘇打，再加上小蘇打的脫硫成本高，所以目前我國(guó)很多企業(yè)已經(jīng)將高比表氫氧化鈣作為煙氣脫硫產(chǎn)品投入使用，歡迎致電合作，我公司竭誠(chéng)為您服務(wù)，提供滿意產(chǎn)品。

高比表氫氧化鈣脫硫劑--高比表面積氫氧化鈣用于SDS干法脫硫中替代小蘇打，為您解決鈉基危廢難處理的難題高比表面積氫氧化鈣產(chǎn)品參數(shù)：氫氧化鈣含量（干基）≥85％，比表面積≥40，細(xì)度＞325目，含水量＜3％。 鈣基脫硫的優(yōu)勢(shì)： 1.＞40㎡/g的高比表面積氫氧化鈣具有多孔、哈爾濱方正當(dāng)?shù)馗呋钚?、哈爾濱方正當(dāng)?shù)胤稚⑿?、哈爾濱方正當(dāng)?shù)乩寐矢叩忍攸c(diǎn)，是普通氫氧化鈣2-3倍，高比表比普通氫氧化鈣增加了鈣硫接觸點(diǎn)，提高了鈣硫反應(yīng)效率，能夠達(dá)到小蘇打的脫硫效率。 2.無(wú)需經(jīng)過(guò)小蘇打磨機(jī)，可直接噴入煙氣管道（無(wú)揚(yáng)塵、哈爾濱方正當(dāng)?shù)毓?jié)省磨機(jī)設(shè)備成本、哈爾濱方正當(dāng)?shù)厝斯こ杀荆?3.小蘇打脫硫后，副產(chǎn)物為硫酸鈉、哈爾濱方正當(dāng)?shù)貋喠蛩徕c、哈爾濱方正當(dāng)?shù)貙儆谖U，較難處置。而鈣基脫硫后，副產(chǎn)物為硫酸鈣、哈爾濱方正當(dāng)?shù)貋喠蛩徕}，屬于一般固廢，可再利用于鋼廠、哈爾濱方正當(dāng)?shù)亟够瘡S、哈爾濱方正當(dāng)?shù)厮鄰S、哈爾濱方正當(dāng)?shù)亟ú膹S等，處理簡(jiǎn)單無(wú)污染。