垃圾發(fā)電廠干法脫硫的核心知識(shí)痛點(diǎn)是：煙氣中 HCl 濃度高達(dá) 800-1500mg/m3，且 HCl 與 CaO 的反應(yīng)優(yōu)先級(jí)（反應(yīng)速率常數(shù) 3.2 L/(mol?min)）遠(yuǎn)高于 SO?與 CaO（1.0 L/(mol?min)），傳統(tǒng)鈣基脫硫劑會(huì)優(yōu)先與 HCl 反應(yīng)生成 CaCl?，導(dǎo)致用于脫除 SO?的有效 CaO 不足，收率普遍低于 80％。這一競(jìng)爭(zhēng)反應(yīng)的本質(zhì)是：Cl?的電負(fù)性強(qiáng)于 SO?2?，更易與 Ca2＋ 形成穩(wěn)定離子鍵，傳統(tǒng)脫硫劑無(wú)針對(duì)性調(diào)控手段，只能通過(guò)過(guò)量投加（超理論量 60％）勉強(qiáng)維持達(dá)標(biāo)，既浪費(fèi)原料又增加固廢量。?泉州德化針對(duì)該痛點(diǎn)研發(fā) “HCl 優(yōu)先捕獲 - 脫硫協(xié)同配方”：一是添加改性氧化鋁（含量 8％）作為 HCl 捕獲劑，其與 HCl 的反應(yīng)優(yōu)先級(jí)（速率常數(shù) 4.5 L/(mol?min)）高于 CaO，可優(yōu)先消耗 HCl 生成穩(wěn)定的 AlCl?，避免 CaO 被無(wú)效消耗；二是復(fù)配 SO?活性增強(qiáng)劑（鈰基化合物），將 SO?與 CaO 的反應(yīng)速率至 2.3 L/(mol?min)，彌補(bǔ)競(jìng)爭(zhēng)反應(yīng)導(dǎo)致的效率損失。經(jīng)實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)，該配方在 HCl 濃度 1200mg/m3 的模擬煙氣中，有效 CaO 利用率從傳統(tǒng)的 55％ 至 90％。?某垃圾發(fā)電廠此前使用普通鈣基脫硫劑，干法脫硫收率長(zhǎng)期 76％，需超量投加 50％ 脫硫劑（年消耗 1200 噸，成本 360 萬(wàn)元）。改用泉州德化產(chǎn)品后，HCl 捕獲劑優(yōu)先中和酸性氣體，SO?反應(yīng)效率，收率穩(wěn)定在 92％，脫硫劑投加量減少 25％（年消耗 900 噸，成本 270 萬(wàn)元），年節(jié)省成本 90 萬(wàn)元；同時(shí) CaCl?生成量減少 40％，固廢處置成本降低 18 萬(wàn)元 / 年，綜合效益顯著。

干法無(wú)鹽霧！豫北鈣業(yè)鈣基脫硫劑守護(hù)電子廠精密設(shè)備： 電子廠怕煙氣里的鹽霧 —— 濕法脫硫的循環(huán)液會(huì)蒸發(fā)產(chǎn)生鹽霧，鈉基干法反應(yīng)后也會(huì)析出鈉鹽顆粒，這些鹽霧會(huì)腐蝕電路板、泉州德化同城傳感器，導(dǎo)致設(shè)備頻繁故障。但鈣基脫硫劑的干法工藝，反應(yīng)產(chǎn)物是中性的硫酸鈣固體，不會(huì)產(chǎn)生任何鹽霧，煙氣潔凈度能滿足電子廠 “無(wú)塵級(jí)” 要求。 某電子元件廠之前用鈉基干法，每月因鹽霧損壞 3 臺(tái)傳感器，損失超 5 萬(wàn)元；換鈣基干法后，半年沒(méi)出現(xiàn)過(guò)設(shè)備腐蝕問(wèn)題。而且鈣基煙氣不含腐蝕性成分，車(chē)間不用額外裝除鹽霧設(shè)備，又省了 2 萬(wàn) / 年的設(shè)備費(fèi)。對(duì)精密制造行業(yè)來(lái)說(shuō)，“無(wú)鹽霧” 的干法優(yōu)勢(shì)，比單純達(dá)標(biāo)更重要！