工作原理及流程：催化凈化是典型的氣固相催化反應，其實質是活性氧參與的深度氧化作用。在催化凈化過程中，催化劑的作用是降低活化能，同時催化劑表面具有吸附作用，使反應物分子富集于表面提高了反應速率，加快了反應的進行。借助催化劑可使有機廢氣在較低的起燃溫度條件下，發(fā)生無焰燃燒，并氧化分解為CO2和H2O，同時放出大量熱能，從而達到去除廢氣中的有害物的方法。 吸附法關鍵適用較低濃度的煤層氣氣體空氣污染物的凈化，濃度較高的有機化學煤層氣汽體在吸附凈化前必須減少濃度值。吸附技術是經(jīng)典、常見的有機廢氣處理技術，也是工業(yè)化生產(chǎn)中的流行技術之一。吸附法的核心技術是吸附劑、吸附機設備和加工技術、再制造材料和后處理技術?；钚蕴烤哂休^大的比表面積和微孔結構，廣泛應用于有機氣的吸附和回收。現(xiàn)階段，活性炭吸附有機廢氣的科學研究關鍵集中化在吸附平衡的預測分析、活性碳原材料的改性及其有機化合物的理化性質對活性炭吸附特性的危害。

光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

沸石轉輪加催化燃燒裝置 吸附脫附催化燃燒設計原理*、用材獨特，性能穩(wěn)定，結構簡便，可靠，節(jié)能省力，無二次污染。設備占地面積小，重量輕。吸附床采用抽屜式結構，裝填方便，便于更換， 自動控制系統(tǒng)的信號檢測器設置于出氣口處，對出氣口的廢氣濃度進行自動檢測，并將濃度數(shù)據(jù)傳輸給PLC控制器，PLC控制器根據(jù)傳輸數(shù)據(jù)發(fā)出控制指令，控制進氣口上的進氣閥門和催化燃燒進氣閥門的自動開啟、閉合，通過對活性炭吸附層的實時脫附實現(xiàn)活性炭吸附層的連續(xù)凈化。為保證生產(chǎn)的連續(xù)運行，設有兩套吸附脫附裝置交替使用。 針對催化燃燒廢氣特點，首*行分類收集，先用設備對工藝產(chǎn)生的煙氣進行處理，在多功能塔內對廢氣進行噴淋吸收，廢氣除味劑、吸收液、化工廢氣除臭劑與其進行充分反應，對VOCs氣體進行一定的分解處理，在末端尾氣處理器上，用有機廢氣催化劑進行光解催化氧化反應，對化工臭氣進行催化裂解處理，對苯類尾氣進行冷凝回收，整個除臭裝置工藝設計合理，廢氣治理設施運行記錄標明，凈化效率一直保持在99%以上。對環(huán)境的污染治理有很大的幫助！