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射頻全程電子水處理器微泡排氣閥除污

更新時間: 2026-01-26 22:20:01 ip歸屬地:廣東,天氣:晴,溫度:5-22 瀏覽:6次


以下是:廣東省射頻全程電子水處理器微泡排氣閥除污的產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品價格11w
發(fā)貨期限含運費
供貨總量1111
運費說明5-10
品牌重慶水智慧流體設備有限公司
規(guī)格型號根據(jù)客戶需求
用途廣泛
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產(chǎn)品優(yōu)勢圖



鍋爐的蒸發(fā)會導致雜質(zhì)濃縮。鍋爐中的垢在熱交換表面的沉積,或懸浮物質(zhì)沉積在金屬表面上,變硬、變粘。鍋爐中的高溫會分解一些礦物質(zhì),引起其它物質(zhì)溶解度降低。

水中的雜質(zhì)和沉積物會導致結(jié)垢和沉積物,如:二氧化硅、懸浮物,或溶解的鐵、油和其它工藝污染物。

溶解的鈣和鎂的重碳酸根受熱會分解釋放出二氧化碳,并形成不溶性的碳酸鹽。

二氧化硅通常在水中不會大量出現(xiàn),但在某種條件下會形成硬垢。尤其是在原水處理不徹底的情況下,膠體硅進入化學水系統(tǒng),且不能被離子交換工藝去除,必然進入鍋爐系統(tǒng),必然增大硅垢形成的趨勢,從而降低蒸汽的品質(zhì)。

硅酸化合物在水中的溶解度很小,其中溶解性的硅酸稱為活性硅(或溶硅),而大部分卻在水中進行聚合而成為雙分子或三分子聚合物, 成為完全不溶解的多分子聚合物,即稱為膠體硅。它們在水中處于動平衡狀態(tài),并隨pH值而變化,當pH值高時,較多轉(zhuǎn)變?yōu)榭扇苄怨?。因此控制爐水的pH>9.5相當關鍵。硅酸化合物存在于水和蒸汽中的危害很大,一旦進入鍋爐后,膠體硅隨著壓力及pH值升高而轉(zhuǎn)化為溶硅,從而使爐水中的含硅量不斷增加,有時即使加大排污量也難以改變爐水含硅量,同時,硅酸在高溫的蒸汽中有較大的溶解度,并隨壓力、溫度的升高而溶解度不斷增大,因此,進入鍋爐的硅酸在爐內(nèi)的沉積雖然不多,卻大部分被蒸汽帶走,硅酸隨著蒸汽的做功過程,溫度、壓力的降低,而溶解度降低,因此就沉在汽輪機的葉片或噴嘴中形成質(zhì)硬的硅酸鹽垢,嚴重時,可使氣壓機效率大幅度下降,阻塞通道,限制出力,影響氣壓機的生產(chǎn),為此,必須控制給水的含硅量,并使用化學品防止爐水的夾帶。




其阻垢機理主要有以下兩種:2.1.1 在常溫作用下,有效地增加了水的溶解能力,減少產(chǎn)生的結(jié)晶現(xiàn)象,并通過把離子和膠體顆粒等穩(wěn)定在水溶液中,達到水質(zhì)穩(wěn)定的效果。2.1.2 在高溫作用下對水中晶核進行處理,加速水中的各種積垢聚集,并使其沉于水底。對于已經(jīng)形成的水垢來說,通過水中含有的大量電子,對水垢分子產(chǎn)生破壞作用,使其從設備器壁上脫落,直至溶解、消失。2.2 化學原理電子水處理器陰陽兩極之間的低壓直流電場,會引發(fā)相對應的電極反應。陰極附近的pH值由于反應中所產(chǎn)生的OH-呈現(xiàn)上升趨勢,碳酸根離子會相應增加,而鈣鎂等離子在靜電引力的作用下,聚集在陰極區(qū)附近并與碳酸根離子和氫氧根離子發(fā)生相應的化學反應,從而生成沉淀物,對抑制水垢的形成,起到了較好的效果。在化學反應作用下析出的水垢能被高速水流帶走或者是通過相應的去除設施進行去除。


產(chǎn)品案例


公司實力


然而,當過氧化氫相對注入的臭氧不足時,式(6)的反應不能進 行,按式(7)所示進行反應,OH·促進BrO3 -的生成反應,與臭氧單 獨處理時相比,BrO3 -的生成量增大:

  OBr·+OBr·+2OH·→BrO3 -+OBr-+2H+ (7)

  因此,當過氧化氫充分殘留時,處理水的BrO3 -約為檢出下限(0.27 μg/L,根據(jù)dionex application report AR026YS-0075)或無法檢 出,可與比將來預想的更嚴格的BrO3 -的控制相對應。然而,在處理水 中未反應的過氧化氫變得大量殘留。另外,當過氧化氫不充分殘留時, 盡管不能檢出溶解的臭氧濃度,但BrO3 -的生成量比臭氧單獨處理時增 大,有時也不能對應現(xiàn)在的BrO3 -的規(guī)定。


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