一種水處理裝置，其特征在于，在向被處理水中注入過(guò)氧化 氫后注入臭氧，處理被處理水的水處理裝置中，該裝置具有：求出向 注入過(guò)氧化氫前的被處理水的一部分注入臭氧，達(dá)到規(guī)定的溶解的臭 氧濃度的臭氧注入率的臭氧注入率計(jì)算系統(tǒng);向其余的被處理水注入 過(guò)氧化氫的過(guò)氧化氫注入單元;向注入了過(guò)氧化氫的被處理水，按照 臭氧注入率計(jì)算系統(tǒng)求出的臭氧注入率注入臭氧，使被處理水與臭氧 反應(yīng)的臭氧反應(yīng)塔。

產(chǎn)品特點(diǎn)

1.設(shè)備綜合性能遠(yuǎn)高于一般的"射頻水處理器"、"電子水處理器"及"磁水處理器"等。2.各發(fā)射極利用差轉(zhuǎn)屏蔽效應(yīng)及多點(diǎn)陣列組合。相互之間無(wú)干擾，針對(duì)性強(qiáng)。

根據(jù)不同的水系統(tǒng)和存在的不同問(wèn)題，設(shè)備分為A型、B型、C型、D型、E型、F型。

A型:防腐、防銹、脫色、超凈過(guò)濾

B型:防垢，除垢、超凈過(guò)濾

C型:殺菌、滅藻、超凈過(guò)濾

D型:殺菌、滅藻、防垢、超凈過(guò)濾

E型:防腐、防銹、防垢、除垢、超凈過(guò)濾

F型:殺菌、滅藻、防垢、防腐、超凈過(guò)濾在臭氧·過(guò)氧化氫并用處理中，用于抑制溴酸的必要的過(guò)氧化氫量可達(dá)到小值。以被處理水用臭氧單獨(dú)處理時(shí)，保持規(guī)定的溶解的臭氧濃度的臭氧注入率，或以被處理水在特定波長(zhǎng)的吸光度與被處理水用臭氧單獨(dú)處理時(shí)，在特定波長(zhǎng)的吸光度達(dá)到規(guī)定比的臭氧注入率，實(shí)施臭氧·過(guò)氧化氫并用處理。過(guò)氧化氫注入率，以質(zhì)量為基準(zhǔn)為臭氧注入率的0.01～5倍。