安徽氫氧化鈣公司生產(chǎn)的“豫北”牌工業(yè)用氫氧化鈣，氧化鈣。精湛的技術(shù)為整個(gè)中國(guó)的灰鈣粉加工行業(yè)帶來(lái)了新的變化！先進(jìn)的設(shè)備。 氫氧化鈣常用于工業(yè)，農(nóng)業(yè)等。而碳酸氫鈣[Ca(HCO3)2]是易溶的，所以溶液會(huì)再次澄清。加熱溶液又變渾濁，因?yàn)樘妓釟溻}受熱分解，生成白色沉淀物碳酸鈣?；意}粉常用于膩?zhàn)臃奂捌渌苛系纳a(chǎn)。 滴加過(guò)程中保持溶液為0℃，過(guò)濾分離析出的Ca(OH)2沉淀，用12L水分若干次傾析洗滌，吸濾沉淀在硫酸（相對(duì)密度1.355）干燥器中真空干燥20h可得Ca(OH)2。 將堿金屬的氫氧化物溶液與鈣鹽的水溶液作用可得氫氧化鈣。將46g四水鈣溶于經(jīng)過(guò)煮沸排除氣體的500mL的蒸餾水中，冷卻至0℃。4邊振蕩邊分多次加入1mol/L的氫氧化鉀溶液（不含CO2）。 容易造成產(chǎn)品堿性大發(fā)，泛黃現(xiàn)象。

安徽氫氧化鈣主要臨床應(yīng)用：氫氧化鈣的臨床應(yīng)用，主要應(yīng)用于下面三方面:，活髓切斷術(shù)，活髓切斷術(shù)的目的是切除有病變的冠部牙髓，保存安康的根部牙髓及牙髓的生機(jī)，維持了乳牙牙根的正常吸收和零落，促進(jìn)年輕恒牙牙根的進(jìn)一步發(fā)育和根尖孔的封鎖。第二，根尖誘導(dǎo)成形術(shù)，當(dāng)年輕恒牙的牙根尚處于發(fā)育階段的時(shí)分，由于某種緣由，如齲齒、畸形、外傷等，使牙髓壞死，牙根中止發(fā)育，致使根尖呈開(kāi)放狀態(tài)。關(guān)于此類患牙的治療，曾使口腔科醫(yī)生感到十分棘手，由于根管腔大，用常規(guī)擴(kuò)挫根管的辦法，要到達(dá)徹底的清創(chuàng)是十分艱難的，若要使根管緊密充填簡(jiǎn)直是不可能的。本世紀(jì)六十年代以來(lái)，國(guó)外在這方面作了大量的研討工作，改動(dòng)了過(guò)去單純機(jī)械充填的辦法，而是促使根尖繼續(xù)發(fā)育到達(dá)封鎖根尖的新途徑，取得了顯著的效果。即先用藥物促使根尖發(fā)育完成，使之封鎖，然后再作根管充填。這就是所謂的根尖誘導(dǎo)成形術(shù)。目前比擬公認(rèn)的效果較好的藥物是含氫氧化鈣的制劑。第三，蓋髓術(shù)，是用藥物直接掩蓋暴露的牙髓，以促進(jìn)牙髓愈合和修復(fù)的治療，通常適用于安康的新穎暴露牙髓。目前氫氧化鈣制劑在臨床上的效果已被公認(rèn)。

反應(yīng)速度氫氧化鈉＞碳酸鈉＞氫氧化鈣。安徽氫氧化鈣 增加涂料的耐水性，耐洗刷性，是生產(chǎn)低檔涂料的 原材料，用于干粉涂料中可以增強(qiáng)其它施工性能及墻面硬度。1，可作生產(chǎn)碳酸鈣的原料?；意}粉在膩?zhàn)又械淖饔没意}粉就是氫氧化鈣。減少輕鈣用量分子式是Ca(OH)2，是一種常用的無(wú)機(jī)粘結(jié)粉體材料。 以及儀表儀器，服飾，電子電訊，皮革，紡織等行業(yè)的產(chǎn)品。石的化學(xué)加工制成氯化鈣，鈣，亞硫酸鈣等重要鈣鹽。安徽氫氧化鈣能除去水的暫時(shí)硬性，用作硬水軟化劑。熟石土特產(chǎn)石灰石CaCO3＝CaO＋CO2↑（條件：高溫）水化成熟石灰：CaO＋H2O＝Ca(OH)2用途的區(qū)別：生石灰多應(yīng)用于建筑，食品的干燥劑和耐火材料，而熟石灰更多的應(yīng)用于制取漂，漂粉精，消毒。 是一種中強(qiáng)堿.氫氧化鈣是二元強(qiáng)堿，但微溶于水。

膩?zhàn)臃奂铀當(dāng)嚢钑r(shí)越攪越稀，過(guò)一會(huì)兒出現(xiàn)滲水。 消石灰也叫熟石灰，它的主要成分是Ca(OH)。熟石灰經(jīng)調(diào)配成石灰漿，石灰膏。具有堿的通性，對(duì)皮膚，織物有腐蝕作用。同時(shí)放出大量的熱），或吸收潮濕空氣中的成水分。向左轉(zhuǎn)|向右轉(zhuǎn)生石灰吸潮或加水就成為消石灰即成熟石灰[氫氧化鈣Ca（OH）2]，又稱“消石灰”。 安徽氫氧化鈣消石灰也叫熟石灰?！　?，運(yùn)輸過(guò)程中避免受潮，小心輕放，以防止包裝破損而影響產(chǎn)品質(zhì)量　　注意事項(xiàng)：鈣沉淀。其含量值不同瓦粘合劑。是氫氧化鈣（calciumhydroxide）。熟石灰在灰無(wú)機(jī)化合物，化學(xué)式Ca(OH)2。 可致氧化鈣粉末本品不屬于，易制爆，不受部門(mén)的管制。用途即水溶液中還存在著沒(méi)有溶解的氫氧化鈣），這就是石灰乳　　：化學(xué)純.害物質(zhì)的高容許濃度1mg/m33)。